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全自動化學吸附儀

簡要描述:全自動化學吸附儀
chemiMaster 8320(CM8320)系列儀器基于動態技術,可進行TPD(程序升溫脫附)、TPR(程序升溫還原),TPO(程序升溫氧化)、脈沖化學吸附測金屬分散度、蒸汽吸附、BET單點比表面積的物理吸附分析、多組分競爭性吸附,用于測定催化劑材料的酸堿量、酸堿強度、貴金屬分散度、氧化還原性能、多組分競爭性吸附等重要指標。

  • 產品型號:CM8310
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-07-09
  • 訪  問  量:3128

詳細介紹

品牌其他品牌價格區間面議
儀器種類化學吸附儀產地類別國產
應用領域化工

CHEMIMASTER8320系列全自動化學吸附儀簡介

ChemiMaster 8310(CM8310)儀器基于動態技術,可進行TPD(程序升溫脫附)、TPR(程序升溫還原),TPO(程序升溫氧化)、脈沖化學吸附測金屬分散度、蒸汽吸附、BET單點比表面積的物理吸附分析、多組分競爭性吸附,用于測定催化劑材料的酸堿量、酸堿強度、貴金屬分散度、氧化還原性能、多組分競爭性吸附等重要指標。
全自動化學吸附儀CM8310

全自動化學吸附儀                              

全自動化學吸附儀CM8310配置
分析站數量:1個
TCD數量:   1個
質量流量控制器數量:2個
尾部質量流量計數量:1個
電動六通閥數量:1個
電動四通閥數量:2個
技術優勢
管路結構:   并聯
保溫設計:   整體管路控溫保溫
防腐蝕功能:整體管路防腐蝕設計
風冷系統:   1個強制風冷系統
冷阱數量:   1個
進氣端口:   8路,可擴展
蒸汽發生器:連續和脈沖兩個模式
混氣功能:    可選
技術參數
●加熱爐工作溫度最高1200℃可選低溫裝置
●加熱爐采用“床溫"和“爐溫"雙點測控
●樣品溫度通過獨立的溫度傳感測量與控制
●檢測器類型為萊鎢合金熱導檢測器TCD 
●儀器內部整體保溫,最高可達300℃
● 氣體流速范圍 5~100 SCCM
● 軟件程序升溫實時顯示,閥門狀態顯示
●質譜取氣端口在樣品管出氣口,避免氣流干擾
● 儀器具有系統危險狀態報警功能
● 可選配蒸汽發生器,整體管路保溫
● LOOP環可以定制選配3種體積以上
● 管路1/8 英寸SS 316不銹鋼管 
● 儀器內部管線和控制閥門均可保溫
儀器尺寸

全自動化學吸附儀

選型指南

全自動化學吸附儀

化學吸附儀可升級競爭性吸附儀
 通過TPD或脈沖滴定等過程,可以測試樣品對于特定氣體吸附量。但在實際應用中,樣品所接觸到的氣氛通常更為復雜,不同氣體同時與樣品接觸時,吸附能力并非簡單的加和關系,而有可能表現出不同組分的競爭關系(X組分的存在有可能抑制樣品對于Y組分的吸附)或協調關系(X組分的存在有可能促進樣品對于Y組分的吸附)。因此對于實際應用場景,有必要針對更為復雜的氣體配比條件,測試樣品對于多組分氣體的實際吸附能力。
 TPD程序升溫脫附
樣品的表面活性位(例如酸中心)吸附探針分子(例如NH3)后,在載氣吹掃下進行程序升溫,記錄樣品溫度與載氣濃度的變化,即為TPD測試譜圖。譜圖中探針分子的脫附峰的溫度對應活性中心的強度,譜圖中探針分子的脫附峰的面積對應活性中心的數量。
TPR/TPO程序升溫還原/程序升溫氧化
TPR用于表征金屬催化劑的還原性。用一定比例的H2/Ar混合氣體作為載氣流過樣品床層并按照一定速率程序升溫。記錄樣品溫度與載氣濃度的變化,即為TPR測試譜圖。譜圖中還原峰的溫度對應金屬中心的還原性能,譜圖中還原峰的面積對應金屬中心還原過程的耗氫量。TPO與TPR類似,用氧化性氣體代替還原性氣體,用于測試金屬中心的氧化性能。
脈沖滴定
以脈沖方式向樣品表面定量注入特定的氣體,記錄載氣濃度的變化,未被吸附的氣體將流過樣品床層并被檢測器記錄。記錄載氣濃度的變化得到脈沖滴定譜圖,其中記錄到的峰對應于未被吸附的氣體的量,脈沖的次數對應于總脈沖量,兩者差減就是樣品的吸附量。脈沖滴定用于表征活性金屬面積,分散度,平均晶粒尺寸等參數。
蒸汽吸附
選配蒸汽發生器,可將液體蒸汽以脈沖或連續流動方式帶入系統參與反應,獨立管理,整體保溫。

全自動化學吸附儀



 

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